Malvern Instruments, GE Instruments, Postnova Analytics »Oferta »Branża »Elektronika

Elektronika

 
Pomiar wielkości i kształtu cząstek oraz potencjału zeta jest istotny dla przemysłu elektronicznego, szczególnie na etapie wytwarzania surowych materiałów do produkcji układów scalonych, wykorzystywanych praktycznie we wszystkich urządzeniach. Obecność pojedynczej, zbyt dużej cząstki może prowadzić do uszkodzenia np. wafla krzemowego czy wyświetlacza LCD. Nasze aparaty pozwalają na:
 
  • Scharakteryzowanie materiałów używanych do produkcji wyświetlaczy: barwników do wyświetlaczy TFT-LCD, past przewodzących do LCD i EL, prekursorów do wytwarzania przezroczystych przewodzących powłok
  • Zapewnienie odpowiednich właściwości zawiesiny ścierającej wykorzystywanej do obróbki krzemu na półprzewodniki
  • Zwiększenie wydajności produkcji i jakości materiałów lutowniczych
Mastersizer 3000

Mastersizer 3000

Mierzone parametry:
wielkość cząstek
Zakres pomiarowy:
10nm do 3500µm
Dozwolone próbki:
mokre i suche
Technika:
dyfrakcja laserowa
Przeznaczenie:
laboratorium
Morphologi G3/G3-ID

Morphologi G3/G3-ID

Mierzone parametry:
Wielkość i kształt cząstek identyfikacja chemiczna
Zakres pomiarowy:
0,5µm do 1000µm
Dozwolone próbki:
Mokre i suche
Technika:
Analiza obrazu
Przeznaczenie:
Laboratorium
Sysmex FPIA3000

Sysmex FPIA3000

Mierzone parametry:
Wielkość i kształt cząstek
Zakres pomiarowy:
0,8µm do 300µm
Dozwolone próbki:
Mokre
Technika:
Analiza obrazu
Przeznaczenie:
Laboratorium